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        首頁 > 半導體整線解決方案 > 先進工藝技術

        光刻 :STEPPER

        考慮到PSS制程對線寬的要求,普通曝光機圖形尺寸和掩膜板尺寸一比一,目前不能滿足PSS線寬精度的要求,現有NIKON STEPPER為5:1的步進投影光刻機。當前世界各國PSS行業大量采用,IC二手NIKON步進投影光刻機已經成為PSS制程的標準配置。



        勻膠顯影設備

        通過高速旋轉方式使膠滴(顯影液)均勻涂布在基片上。并通過機械手將基片傳遞到熱板上均勻烘干,然后在冷板上降溫。全過程自動化的從片盒到片盒之間處理。


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